CVD / PVD പ്രോസസ് ചേമ്പറുകൾക്കുള്ള ഉയർന്ന ശുദ്ധിയുള്ള അലുമിന സെറാമിക് റിംഗ്

സെന്റ് സെറാസിന്റെ സെറാമിക് മോതിരം CVD (കെമിക്കൽ വേപ്പർ ഡിപ്പോസിഷൻ), PVD (ഫിസിക്കൽ വേപ്പർ ഡിപ്പോസിഷൻ) പ്രോസസ് ചേമ്പറുകളിൽ ഉപയോഗിക്കുന്നതിനായി പ്രത്യേകം രൂപകൽപ്പന ചെയ്തിട്ടുള്ളതാണ്. 99.8% ഉയർന്ന പ്യൂരിറ്റി അലുമിന (Al₂O₃) ഉപയോഗിച്ച് നിർമ്മിച്ച ഈ മോതിരം, പ്ലാസ്മയെ പരിമിതപ്പെടുത്തുന്നതിനും ചേമ്പർ ഭിത്തികളെ മണ്ണൊലിപ്പിൽ നിന്ന് സംരക്ഷിക്കുന്നതിനുമുള്ള ഒരു ചേമ്പർ ലൈനർ, ഫോക്കസ് റിംഗ് അല്ലെങ്കിൽ പ്രോസസ് കിറ്റ് ഘടകമായി പ്രവർത്തിക്കുന്നു. മെറ്റീരിയൽ മികച്ച പ്ലാസ്മ പ്രതിരോധം, ഉയർന്ന ഡൈഇലക്ട്രിക് ശക്തി (15×10⁶ V/m), 1600°C വരെ താപ സ്ഥിരത എന്നിവ വാഗ്ദാനം ചെയ്യുന്നു, ഇത് ആക്രമണാത്മക ഫ്ലൂറിൻ അധിഷ്ഠിത പ്ലാസ്മ പരിതസ്ഥിതികളിൽ ദീർഘായുസ്സ് ഉറപ്പാക്കുന്നു. കൃത്യമായ ഡൈമൻഷണൽ ടോളറൻസുകളും (ID/OD-യിൽ ±0.05 mm) ഫ്ലാറ്റ്നെസ്സും (≤10 μm) സ്ഥിരമായ വേഫർ എഡ്ജ് പൊസിഷനിംഗ് പ്രാപ്തമാക്കുന്നു, ഡിപ്പോസിഷൻ യൂണിഫോമിറ്റി മെച്ചപ്പെടുത്തുന്നു, കണികാ ഉത്പാദനം കുറയ്ക്കുന്നു.

സ്പെസിഫിക്കേഷനുകൾ (99.8% Al₂O₃ അടിസ്ഥാനമാക്കി):

അപേക്ഷകൾ:

• · സിവിഡി ചേമ്പർ ഫോക്കസ് റിംഗുകളും എഡ്ജ് റിംഗുകളും
• · പിവിഡി ചേമ്പർ ഷീൽഡ് വളയങ്ങളും ക്ലാമ്പ് വളയങ്ങളും
• · എച്ച് ചേമ്പർ ലൈനറുകളും കവർ റിംഗുകളും
• · ഡൈഇലക്ട്രിക്കൽ എച്ച് സിസ്റ്റങ്ങളിലെ പ്ലാസ്മ കൺഫെയിൻമെന്റ് റിങ്ങുകൾ

നിർമ്മാണ പ്രക്രിയ:

ഐസോസ്റ്റാറ്റിക് പ്രസ്സിംഗ് → ഗ്രീൻ മെഷീനിംഗ് → 1600°C-ൽ സിന്ററിംഗ് → CNC ID/OD ഗ്രൈൻഡിംഗ് → സർഫസ് ലാപ്പിംഗ് → അൾട്രാസോണിക് ക്ലീനിംഗ് → 100% CMM പരിശോധന. അൾട്രാ-സ്മൂത്ത് സർഫസ് ഫിനിഷ് (Ra ≤0.4 μm) കണിക അഡീഷൻ കുറയ്ക്കുന്നു.

ഗുണനിലവാര നിയന്ത്രണം:

• · 100% ഡൈമൻഷണൽ പരിശോധന (ഐഡി, ഒഡി, കനം, പരന്നത)
• · ഉപരിതലത്തിലെ സൂക്ഷ്മ വിള്ളലുകൾക്കുള്ള ഡൈ പെനട്രന്റ് പരിശോധന.
• · ASTM D149 അനുസരിച്ചുള്ള ഡൈഇലക്ട്രിക് ശക്തി പരിശോധന
• · 20× മൈക്രോസ്കോപ്പിന് കീഴിൽ ദൃശ്യമായ നിറവ്യത്യാസമോ സുഷിരമോ ഇല്ല.

മെറ്റൽ അല്ലെങ്കിൽ ക്വാർട്സ് വളയങ്ങളെ അപേക്ഷിച്ച് ഗുണങ്ങൾ:

• · ഫ്ലൂറിൻ പ്ലാസ്മയിലെ അലുമിനിയം വളയങ്ങളേക്കാൾ 5–10× കൂടുതൽ ആയുസ്സ്
• · നേർത്ത ഫിലിമുകളിൽ ലോഹ മലിനീകരണമില്ല.
• · ക്വാർട്സിനേക്കാൾ ഉയർന്ന പ്ലാസ്മ പ്രതിരോധം (അഴിയൽ കുഴികളില്ല)
• · ദീർഘകാല ഉപയോഗത്തിനു ശേഷവും 10¹⁴ Ω·cm-ൽ കൂടുതൽ വൈദ്യുത ഇൻസുലേഷൻ നിലനിർത്തുന്നു.

ഇതര വസ്തു — സിലിക്കൺ നൈട്രൈഡ് (Si₃N₄):

ഉയർന്ന ഫ്രാക്ചർ കാഠിന്യവും (6.2 MPa·m¹/²) മികച്ച തെർമൽ ഷോക്ക് റെസിസ്റ്റൻസും (വികസന ഗുണകം 3.2×10⁻⁶/℃) ആവശ്യമുള്ള ആപ്ലിക്കേഷനുകൾക്ക്, Si₃N₄ വളയങ്ങൾ ലഭ്യമാണ്. എന്നിരുന്നാലും, മിക്ക CVD/PVD ആപ്ലിക്കേഷനുകൾക്കും അലുമിന കൂടുതൽ ചെലവ് കുറഞ്ഞതാണ്. ഓർഡർ ചെയ്യുമ്പോൾ മെറ്റീരിയൽ മുൻഗണന വ്യക്തമാക്കുക.

ഇഷ്‌ടാനുസൃതമാക്കൽ:

• · മൌണ്ട് ചെയ്യുന്നതിനുള്ള ത്രൂ-ഹോളുകൾ, സ്റ്റെപ്പ്ഡ് പ്രൊഫൈലുകൾ, അല്ലെങ്കിൽ കൌണ്ടർബോറുകൾ
• · പ്ലാസ്മ പ്രതിരോധം വർദ്ധിപ്പിക്കുന്നതിന് Y₂O₃- പൂശിയ പ്രതലം (ഓപ്ഷണൽ)
• · പാർട്ട് നമ്പർ / ലോട്ട് കോഡിന്റെ ലേസർ കൊത്തുപണി

കുറിപ്പ്:മുകളിലുള്ള ഡാറ്റ നൽകിയിരിക്കുന്ന Al₂O₃ പ്രോപ്പർട്ടി പട്ടികയെ കർശനമായി പാലിക്കുന്നു. Si₃N₄ വളയങ്ങൾക്ക്, നൽകിയിരിക്കുന്ന പ്രത്യേക Si₃N₄ ഡാറ്റാഷീറ്റ് കാണുക.